什么是智能工廠? 智能工廠現存建設誤區
在智能工廠中,借助于各種生產管理工具、軟件、系統和智能設備,打通企業從設計、生產到銷售、維護的各個環節,實現產品仿真設計、生產自動排程、信息上傳下達、生產過程監控、質量在...
淺談晶圓代工廠制程節點和應用
當MCU需求激增時,8英寸晶圓往往會生產更多的MCU,而不是價格較低的MOSFET。另一方面,PMIC和DDIC的需求穩定,因此晶圓代工廠商總是為PMIC和DDIC分配一定的產能。...
面對芯片制裁 俄正式出手
氖氣在空氣中的占比僅為十萬分之一,并且氖氣的沸點極低,從空氣中分流提取高純度氖氣難度非常高,并且相關的設備和技術是絕對保密的。...
中國中科大光量子芯片重磅問世
根據公開數據顯示,2021年中國芯片進口總額達到4326億美元,創下歷史新高,而且未來進口額可能還將持續進一步上漲,其中有兩個主要因素,一個是全球芯片供應鏈出現問題。...
如何降低揚塵監測中PM2.5的應用對策,你了解多少?
PM2.5是指在空氣動力學和環境氣象學中,顆粒物是按直徑大小來分類的,粒徑小于100微米的稱為TSP,即總懸浮物顆粒;粒徑小于10微米的稱為PM10,即可吸入顆粒物;粒徑小于2.5微米的稱為PM2.5,即可...
2022-06-10 標簽:監測設備 4
芯片供給過剩跡象已現,ASML光刻機交付大幅下降
歐洲擁有全球最強的汽車產業、機械設備產業同樣也需要芯片,它已規劃數百億歐洲的芯片擴張計劃;日本為了滿足自己制造業對芯片的需求,主動要求臺積電在日本設廠。...
【AVENTK科普】UV膠水收縮率產生機理是什么?
UV膠水在使用過程中涉及到兩個被粘接材料,因此相比UV油墨等涂料,在固化過程中更難消除收縮產生的應力和體積上的缺陷,所以UV膠水對降低收縮率的要求也更高。AVENTK作為UV膠水廠家,在...
2022-06-06 標簽:UV膠 209
哪些情況下會用到預固化UV膠水?
眾所周知,UV膠水用于粘接應用時,要求兩個粘接物件中至少有一件是可透UV光的,例如玻璃、PC、 PMMA等材料。只有UV可通過物件照射到UV膠水上,膠水才能產生化學反應完成固化。那么如果不透...
2022-06-06 標簽: 202
AVENTK帶你了解膠粘劑在工業上的優勢
在工業生產中,膠粘劑的應用是十分廣泛,起到了粘接固定、密封、保護等作用。AVENTK作為國產膠粘劑生產商,所生產膠水類型包括UV膠水、環氧膠、熱熔膠、低溫熱固膠水、催化劑固化類膠水...
2022-06-06 標簽:膠粘劑 209
PM2.5、PM10揚塵監測設備的選擇
我國關于工地揚塵環境整治要求越來越高,PM2.5、PM10越來越成為環境監測的重要指標,在建筑施工中發生的揚塵,作為PM2.5、PM10的重要構成部分,也成為各級環保部分監控的重點對象。傳統的建...
2022-06-10 標簽:監測儀 4
原來光線對UV膠水使用效果影響這么大
由于UV膠水的感光性能,因此我們在生產和使用UV膠水的時候都需要注意光線對膠水的影響,以免因為光線不當影響UV膠水性能。AVENTK作為UV膠水廠家,今天就告訴大家幾點在生產和使用UV膠水時...
2022-06-06 標簽:UV膠 205
耐高溫UV膠到底能耐溫多少度?
UV膠水從誕生至今,其產品類型、應用領域不斷豐富擴展。隨著生產制造中對UV膠水的需求越來越多樣化,UV膠水廠家也在不斷研發創新,力求盡量滿足客戶的膠粘劑需求,生產出更豐富多樣的...
2022-06-06 標簽: 205
富士康將于明年開始生產汽車芯片及下一代半導體
日前,據媒體報道稱,富士康將在明年開始啟動汽車芯片以及下一代半導體晶圓廠的生產工作。 作為代工大廠,富士康長期為蘋果系列產品提供代工服務,并且不只是手機等便攜設備,富士康...
通過一體式蝕刻工藝來減少通孔的缺陷
引言 本研究針對12英寸晶圓廠近期技術開發過程中后端一體化(AIO)蝕刻工藝導致的圖案失效缺陷。AIO蝕刻直接限定了溝槽和通孔的形狀,然而,包括層間介電膜的沉積、金屬硬掩模和濕法清洗的...
BWcut H 超高性能黑色鍍層絲,解決了微米級精工制造問題
博德高科是博威合金旗下子公司,主營精密細絲業務。今年,公司重磅推出“超高性能黑色鍍層絲BWcutH”,產品實現了光潔度與加工速度的“雙提升”。通過創新獨到的鍍層重構技術,相比黃銅...
2022-06-10 標簽:鍍層 3
濕法清洗過程中的顆粒沉積和去除研究
摘要 溶液中晶片表面的顆粒沉積。然而,粒子沉積和清除機制液體。在高離子中觀察到最大的粒子沉積:本文將討論粒子沉積的機理酸性溶液的濃度,并隨著溶液pH值的增加而降低,在使用折痕...
封測企業華進半導體榮獲無錫高新區科技創新貢獻獎
2022年5月30日,無錫高新區(新吳區)召開全區人才工作暨科技創新大會,華進半導體榮獲“2021年度區科技創新貢獻獎”、“2021年度區科技創新資金重點獎勵企業”,華進半導體總經理孫鵬上臺...
22nm互連的光刻蝕刻后殘留去除的挑戰和新方法
本文描述了我們華林科納研究去除金屬硬掩模蝕刻后光致抗蝕劑去除和低k蝕刻后殘留物去除的關鍵挑戰并概述了一些新的非等離子體為基礎的方法。 隨著圖案尺寸的不斷減小,金屬硬掩模(MH...
晶圓代工迅猛發展 全球半導體2021年總營收增加了26%
Gartner的報告還顯示,全球半導體行業2021年總營收增加了26%,達到5950億美元。其中,中國臺灣和韓國地區的Foundry廠的營收受益于AMD和MediaTek等Fabless廠商的強勁需求。...
怎么做好施工現場揚塵監測儀?
建筑師怎么做好施工現場揚塵噪聲處理,降低事件產生頻率,阻絕各種違規操縱和不文明施工現象一直是施工企業、政府處理部分關注的焦點。某些建筑工地整夜加班趕工噪聲過大,影響交通平...
2022-06-10 標簽:監測儀 3
蘋果A16處理或將升級5nm工藝
蘋果原計劃或許是在2022年的iPhone14中使用比A15更高制程的4nm工藝,然而臺積電的4nm要到2023年才會量產。...
富士通:VUCA時代制造企業的逆局方式
身處VUCA時代,許多人都會感到焦慮,對未來走勢感到迷茫。面對疫情常態化、供應鏈受阻以及政策導向變化等種種危機及不確定性,越來越多的企業也面臨著艱難抉擇,如何探索新路徑成為企...
2022-05-26 標簽:富士通 948
中穎很多8位MCU產品支持外部32.768kHz晶振
32K_DRIVE是32.768kHz晶振強驅模式的寄存器控制位,位于時鐘控制寄存器(CLKCON)的bit 1,復位初始值由代碼選項OP_32KDRIVE給出。只有代碼選項OP_OSC選擇了32.768kHz晶體振蕩器,此控制位才有效。...
借助揚塵監測儀實現更好的工程實工
揚塵監測儀的運用主要是提高城市空氣環境和城市建設,是提高工程質量的重要方法。揚塵在線監測能夠對相關工程實施揚塵的問題進行監管,幫助企業對其方案和其原料進行篩選和甄別,在后...
2022-06-10 標簽:監測儀 3
華進半導體指導項目喜獲第二屆 “集萃創新杯”二等獎
2022年5月24日,由長三角國家技術創新中心、江蘇省產業技術研究院組織開展的“第二屆集萃創新杯”活動頒獎典禮順利召開,華進半導體陳天放、陶煊及北京郵電大學張金玲教授共同指導的“...
半導體工業中表面處理和預清洗的重要性
半導體工業中表面處理和預清洗的重要性是眾所周知的。為了確保良好的薄膜粘附和金屬-半導體接觸的低電阻,酸或堿處理后的某些溶劑或等離子體清洗對于去除有機殘留物和表面氧化物是必...
KOH和TMAH溶液中凸角蝕刻特性研究
在濕法各向異性蝕刻中,底切凸角的蝕刻輪廓取決于蝕刻劑的類型。已經進行了大量的研究來解釋這種凸角底切并確定底切平面的方向。然而,還不清楚為什么不同蝕刻劑會出現不同形狀的底切...
聯電新加坡晶圓廠P3開始動工,預計2024年底實現量產
今年3月份,聯電曾計劃咋新加坡Fab12i廠區新建晶圓廠,共計花費50億美元,預計將在2024年底實現量產。 日前,聯電新加坡的新晶圓廠P3正式開始動工,并且以9.54億新臺幣的價格取得了30年的土...
4大單元組成的揚塵監測設備有哪些?
揚塵監測設備主要由4大工作單元組成,即顆粒物監測單元、噪聲監測單元、視頻監控單元、氣象監測單元來共同合作來獲得各項檢測數據。1、顆粒物監測單元巧妙設計光敏感區作為粒子散射發...
2022-06-10 標簽:監測儀 3
多晶ZnO:Al薄膜的蝕刻特性研究
將ZnO:Al薄膜織構化與沉積條件的依賴性分開是優化ZnO作為太陽能電池中的光散射、透明接觸的一個重要方面。對于給定的多晶ZnO:Al薄膜,凹坑的密度和形狀可以通過改變各種酸的溫度和濃度來控...
德州儀器謝爾曼晶圓制造基地工廠將于2025年開始投產
德州儀器今日宣布其位于德克薩斯州謝爾曼 (Sherman) 的全新 12 英寸半導體晶圓制造基地正式破土動工。德州儀器董事長、總裁及首席執行官譚普頓 (Rich Templeton) 先生在動工儀式上慶祝該基...
等離子體蝕刻和沉積問題的解決方案
我們華林科納討論了一些重要的等離子體蝕刻和沉積問題(從有機硅化合物)的問題,特別注意表面條件,以及一些原位表面診斷的例子。由于等離子體介質與精密的表面分析裝置不兼容,講了...
富士康計劃新建12英寸晶圓廠,將鎖定28nm及40nm制程
今日,據媒體報道,為擴大產能,滿足電動汽車生產的需求,富士康計劃在馬來西亞新建12英寸晶圓廠。 富士康將通過旗下一家子公司與位于馬來西亞的科技公司Dagang NeXchange Berhad展開合作,一...
污染和清洗順序對堿性紋理化的影響
本文介紹了我們華林科納研究了污染和清洗順序對堿性紋理化的影響。硅表面專門暴露在有機和金屬污染中,以研究它們對堿性紋理化過程的影響,由此可見,無機污染對金字塔密度的影響不小...
晶片清洗和熱處理對硅片直接鍵合的影響
本實驗通過這兩種清洗方法進行標識分為四個實驗組,進行了清洗實驗及室溫接合, 以上工藝除熱處理工藝外,通過最小化工序內部時間間隔,抑制清洗的基板表面暴露在大氣中的灰塵等雜質...
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